非自耗真空电弧炉KDH-1000技术参数
1)电弧熔炼室：立式圆筒型真空室。
2)冷态极限真空度：≤6.7x10-4 Pa.
3)熔炼电流：额定电流1000 A.
4)设备加热温度：3500~4000℃.
5）熔炼埚有五个工位，三个熔炼合金工位（一个带电磁搅拌），一个熔炼除气工位，一个吸铸工位。
6)熔炼样品重量（以铁标定）：1x500克，1x200克，1x100克。
7)熔炼除气工位（以铁标定）：1X80克。
8)吸铸工位（以铁标定）：1x80克
9)电弧熔炼阴极装置：引弧方式为高频和接触式引弧。
非自耗真空电弧炉KDH-1000是利用等离子体的高温、高能量和高活性进行金属材料的熔炼和自然晶体生长。真空电弧加热方式使用射频(RF)发生器产生高频应用场来引导铝箔放电，形成电弧及其等离子体。当铝箔被加热到其熔点以上时，它流动到集合内静电场所达到的垂直表面之上，随即由于放电中所释放的热量再次熔融。
非自耗真空电弧炉的加热功率主要由射频发生器和变压器组成，射频发生器可以使铝箔在等离子工作区之间发生放电。而变压器可以将这些高频脉冲转换为更高的直流电压，用于引导表面放电产生对物料的额外加热。所以，通过调整射頻發生器的输出功率来控制加热功率。真空度的控制会随着动态泵的运转，电机泵中残留气体压强很弱。再次使用微分和分析两种传感器来进行控制。
